Новый метод моделирования физических процессов PPPL делает производство микрочипов эффективным

Сотрудники Принстонской лаборатории физики плазмы (PPPL) Министерства энергетики США повысили производительность производства микрочипов за счет моделирования физических производственных процессов, пишет splitstoun.ru. В работе использован процесс атомно-послойного травления кремния с попеременным действием газообразного хлора и ионов плазмы аргона.

Это позволяет удалять с поверхности отдельные атомарные слои. Кроме того, эта технология подходит для гравировки трехмерных структур на кремниевой пластине. Эти структуры могут быть в тысячи раз тоньше человеческого волоса.

Разработанная в ходе исследования модель сравнивалась с экспериментальными данными. Ученые заявили о значительном согласии с полученными результатами. По мнению авторов научной работы, ее важность заключается в том, что глубокое понимание таких процессов ускорит развитие микроэлектроники, которую можно будет применять в различных областях.